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真空镀膜实质上是在高真空状态下利用物理方法在镀件的表面镀上一层薄膜的技术，它是一种物理现象。

真空镀膜按其方式不同可分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和现***展起来的离子镀膜。

磁控溅射膜层的沉积是气相沉积。膜层厚度范围为nm～μm数量级，膜厚＜550nm，对光有干涉作用，沈阳真空设备，属于薄膜范畴，通常称薄膜技术。

磁控溅射镀特点：溅射速率高，沉积速率高。磁控溅射阴极源是一个较为理想的可控源，沉积的膜层厚度与溅射源的功率或放电电流有较好的线性相关性，所以有较好的可控性。

真空系统包括机械泵、低温泵、粗抽阀、前级阀、闸板阀、以及检测真空度的真空计。

相比较原来常用的机械油泵，可以杜绝油泵中的油气进入真空室，污染基片，降低薄膜与基片的附着力。通常在干泵抽到6.5Pa以下后，再打开闸板阀，沈阳真空设备厂家，用低温泵抽高真空，低温泵的特点是抽速大，尤其是除水蒸汽的能力非常强。

溅射镀膜系统由直流电源、靶材、冷却水、永磁铁、基片加热装置、挡板、屏蔽层等组成。这是磁控溅射台的核心部分。

基片加热装置能除掉基片上的水蒸气等杂质，可以提高薄膜与基片的附着力，另外对于某些金属，合适的温度能提高薄膜的质量。

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