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温度是反应物体冷热程度的物理量，是衡量物体分子运动平均动能的标志。对温度本身的探究没有意义。但是，温度的控制在当今各个领域都得以深入应用，且具有积极的意义。

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磁控溅射镀膜的特点：

磁控溅射镀膜技术通过磁场的加入，沈阳真空设备生产厂，改变并延长电子的运动轨迹，使其能与***气充分的碰撞，电离出更多的Ar 轰击靶材，从而提高了溅射速率；受到正交电场和磁场共同作用的电子，沈阳真空设备生产厂家，在能量基本耗尽时，才沉积到基片上，避免了基片的温度上升。

这就造就了磁控溅射的两大优点：溅射速率高，基片温度低。另外，沈阳真空设备生产商，通过磁控溅射工艺得到的薄膜与基片的附着力强，薄膜的牢固度很强。

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