沈阳真空设备-天成【稳健创新】-沈阳真空设备厂家

磁控溅射设备的主要用途：

各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，沈阳真空设备厂家，以提高太阳能电池的光电转换效率。

时沿装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。

在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机

化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得面积非常均匀的薄膜。

在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

与射水抽气器比较，离心真空泵有耗功低、耗水量少的优点，并且噪声也小。离心真空泵的缺点是：过载能力很差，当抽吸空气量太大时，真空泵的工作恶化，真空***。这对真空严密性较差的大机组来说是一个威胁。故可考虑采用离心真空泵与射水抽气器共用的办法，当机组起动时用射水抽气器，沈阳真空设备，正常运行时用真空泵来维持凝汽器的真空。

温度为20K时，沈阳真空设备采购，除氦、***和氢外，其他气体的蒸气压也低于10-8帕。但由于被抽容器和低温冷板的温度不同，沈阳真空设备哪家好，泵的极限压力高于冷凝物的蒸气压。对于室温下的容器，低温板为20K时，泵的极限压力约为冷凝物蒸气压力的4倍。

类型

低温泵分为注入式液氦低温泵和闭路循环气氦制冷机低温泵两种。①注入式液氦低温泵：主要由液氦容器、泵体和连接挡板的液氮腔体等部分组成。